[:en]Multi-core chips are now common and, as they continue to scale up, processors will become the equivalent of a computer cluster on a single die. Therefore, high-bandwidth and low-latency interconnects will be necessary to fully exploit the processing power of these chips. However, current electrical interconnects cannot be scaled to meet the requirement of future high performance electronic circuits because of power dissipation limitations. Silicon photonics has demonstrated that it is possible to build CMOS compatible optical components. However, these require a different wafer structure than state-of-the-art electronics and are therefore not suitable for on-chip interconnects. Therefore, we are investigating novel multi-layer optical waveguide architectures implemented with materials deposited at low temperature that provide a high refractive index contrast.[:fr]Les puces multi-cœurs sont désormais courantes et bientôt les processeurs deviendront l’équivalent d’une grappe de calcul sur une seule puce. Par conséquent, des interconnexions à large bande passante et à faible latence seront nécessaires pour exploiter pleinement la puissance de ces puces. Cependant, les interconnexions électriques actuelles ne peuvent pas être mises à l’échelle pour répondre aux exigences des futurs circuits électroniques de haute performance en raison des limites sur la dissipation de chaleur. La photonique sur silicium a démontrée qu’il est possible de construire des composants optiques compatibles avec les procédés CMOS. Toutefois, ceux-ci exigent une structure de gaufre différente que celle utilisée pour l’électronique avancée et ne conviennent donc pas pour les interconnexions optiques sur puce. Nous développons donc un nouveau procédé de fabrication de guides d’onde optiques, compatible avec les circuits CMOS, qui utilise des matériaux déposés à basse température et qui offrent un contraste d’indice de réfraction élevé.[:]
